Raziskovalni oddelek IBM Research je iznašel metodo za risanje črt po siliciju, ki so oddaljene le 29,9 nanometra. Ker jim je podvig uspel z uporabo današnjih strojev za izdelavo čipov in ker so črte na današnjih čipih precej bolj oddaljene, utegne novi dosežek laboratorijev IBM pomembno prispevati k zmanjševanju stroškov izdelave integriranih vezij.